センサー関連機器
微生物培養にて用いられるセンサーは定置洗浄（CIP）及び定置滅菌（SIP）プロセスが頻繁に実施されるアプリケーションで使用する前提でつくられています。 弊社が採用するセンサーは、これらの高温且つ突発的なサンプル変化に耐え、最小限のメンテナンスで正確に測定できることを最優先に採用しており、長年の実績から圧倒的なご支持を頂いております。
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培養センサー
標準pH電極
加圧対応pH電極
ポーラロ式DO電極
光学式DO電極
ORP電極
溶存CO2電極
変換器
ｐＨ・ＤＯ・ＯＲＰ用
消泡電極
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濁度センサー
ファーメンターへ直接挿入して連続的なグロースカーブを取得。
● サンプリング無しで増殖プロセスのリアルタイム測定が可能です。
● 近赤外領域の波長を使用することで培養液の色に影響を受けずに測定可能です。
● ファーメンターに接続すると、濁度センサーをトリガーとしてフィード制御が可能です。
● 分光光度計によるOD値を検量線データ登録することで、OD値換算で管理できます。
お問い合わせ
周辺機器を含め、是非ご相談下さい
培養部
〒744-0002 山口県下松市東海岸通り1-11
TEL：0833（43）5751
FAX：0833（43）5498〒103-0004 東京都中央区日本橋馬喰町1-9-9
（加富屋ビル2階)
TEL：03（5695）1082
FAX：03（3668）1336掲載カタログ
| モデル名 | VSS-450-300 | RVS-210 | RSS-210-S | |
|---|---|---|---|---|
| 外観 |  |
 |
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| 特徴 | ・真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・フラックス入り/無しのはんだに対応 ・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』 ・300mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
|
| 加熱プレートサイズ | WxD(mm) | 320×320 | 210×210 | 210×210 |
| 有効対象物サイズ | WxDxH(mm) | 300×300×50 | 200×200×50 | 200×200×50 |
| 最大到達温度 | 450℃ | 400℃ | 400℃ | |
| 加熱方式 | クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
IRヒーター（下部加熱） | IRヒーター（下部加熱） | |
| 温度制御方式 | P.I.D.制御方式 | |||
| プレート上面内温度差 | 設定温度に対して±1%以内 | 設定温度に対して±1%以内 | ||
| （対象物：Φ300mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | ||
| 最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る |
150K/min. | 120K/min | 240K/min | |
| 最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る |
90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃） |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
|
| チャンバー真空耐久度 | 0.1 Pa（10-3hPa） | |||
| プロセスガス供給ライン | マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm） | |||
| コントローラ | タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700 | |||
| プロファイルプログラム登録数 | 最大：50プログラム | |||
| プログラムステップ数 | 最大：50ステップ | |||
| チャンバー冷却方式 | ウォータージャケット方式 | |||
| 加熱プレート冷却方式 | 水冷/空冷（共用可） | |||
| 装置サイズ | WxDxH(mm) | 550x690x830 | 670x544x320 | 430x295x290 |
| 装置重量 | (kg) | 約105kg | 約45kg | 約22kg |
| 電源仕様 | 三相200V・40A | 三相200V・25A | 三相200V・16A | |
| ギ酸・水素還元両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 装置オプション | ||||
| 上部IRヒーター モジュール |
標準 | ○ （電源仕様：三相200V、80A） |
— | |
| セパレート用石英ガラス板 | ○ | — | ||
| チャンバー高さ | ○（120mm） | チャンバー高さ80mm | チャンバー高さ80mm | |
| 最大到達温度 | 650℃ | 最大到達温度500℃ | ||
| 蓋付きグラファイト製円筒アダプタ | — | — | ||
| グラファイト製 プレート |
標準 | — | — | |
| PyC浸潤 | — | — | ||
| SiCコーティング | — | — | ||
| ダブルチャンバー | — | — | ||
| 石英ガラス製 チャンバー |
標準 | — | — | |
| 高真空対応 | — | — | ||
| 内蔵ギ酸還元 モジュール |
内蔵 （標準の窒素ガスMFC共用） |
○ | ||
| 内蔵 （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| 外付け （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター | ○ | |||
| フラックストラップフィルター | — | — | ||
| 高濃度水素ガス供給システム （安全対策オプション含む） |
○ | |||
| チャンバー蓋インターロック | （標準装備） | ○ | ||
| 追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ | ○ （合計4系統） |
|||
| 追加熱電対 （対象物温度測定・記録用） |
○ （合計1本） |
○ （合計3本） |
||
| 湿度測定センサ （チャンバー内湿度測定・記録用） |
○ | — | ||
| 酸素濃度測定センサ （チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用） |
○ | |||
| 3色パトライト（赤・黄・緑） | ○ | |||
| 高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa） 及びターボ分子ポンプ |
○ | |||
| 対象物持ち上げ用リフトピン | ○ | |||
| 外部機器通信用シリアル通信機能 | ○ | |||
| チャンバー蓋開閉用リモート制御機能 | ○ | |||
| 真空ポンプ （真空到達圧） |
低真空 | ○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択） |
||
| 高真空 | ○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa） |
|||
| 冷却機付きチラー | 1.3kW | ○ （5.3kW or 8.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
| ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー | ○ （504x714x412mm、約50kg） |
|||
| RSO-200 | RSS-3X210-S | RSS-160-S | RSS-110-S |
 |
 |
 |
 |
| ・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 | |||
| 155×155×40 | 620×200×50 | 155×155×40 | 105×105×40 |
| 650℃ | 300℃ | 400℃ | |
| クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
カートリッジヒーター（下部加熱） | ||