出展
インターフェックス ファーマラボEXPOに出展いたします。
| 会 期 | 2021年12月8日（水）～12月10日（金） |
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| 場 所 |
幕張メッセ ２ホール |
| 主催 |
RX Japan株式会社 |
| ブース番号 | No.20-1 |
| カタログ表紙 |
 ▼滅菌済み70％変性エタノールスプレー ▼ろ過滅菌済み6％過酸化水素スプレー ▼ろ過滅菌／未滅菌 次亜塩素酸水溶性スプレー ▼ハンディーモップ ▼含浸ワイパー ▼シミュレーションと物性計測・実験が 一体となった受託解析サービス ◆研究開発～品質管理～製造関連 自動化技術の紹介（キヤノンマシナリー） ご参加には、事前登録が必要です。 ご紹介製品情報を掲載したカタログのご用意がございます。 |
| モデル名 | VSS-450-300 | RVS-210 | RSS-210-S | |
|---|---|---|---|---|
| 外観 |  |
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| 特徴 | ・真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・フラックス入り/無しのはんだに対応 ・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』 ・300mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
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| 加熱プレートサイズ | WxD(mm) | 320×320 | 210×210 | 210×210 |
| 有効対象物サイズ | WxDxH(mm) | 300×300×50 | 200×200×50 | 200×200×50 |
| 最大到達温度 | 450℃ | 400℃ | 400℃ | |
| 加熱方式 | クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
IRヒーター（下部加熱） | IRヒーター（下部加熱） | |
| 温度制御方式 | P.I.D.制御方式 | |||
| プレート上面内温度差 | 設定温度に対して±1%以内 | 設定温度に対して±1%以内 | ||
| （対象物：Φ300mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | ||
| 最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る |
150K/min. | 120K/min | 240K/min | |
| 最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る |
90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃） |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
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| チャンバー真空耐久度 | 0.1 Pa（10-3hPa） | |||
| プロセスガス供給ライン | マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm） | |||
| コントローラ | タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700 | |||
| プロファイルプログラム登録数 | 最大：50プログラム | |||
| プログラムステップ数 | 最大：50ステップ | |||
| チャンバー冷却方式 | ウォータージャケット方式 | |||
| 加熱プレート冷却方式 | 水冷/空冷（共用可） | |||
| 装置サイズ | WxDxH(mm) | 550x690x830 | 670x544x320 | 430x295x290 |
| 装置重量 | (kg) | 約105kg | 約45kg | 約22kg |
| 電源仕様 | 三相200V・40A | 三相200V・25A | 三相200V・16A | |
| ギ酸・水素還元両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 装置オプション | ||||
| 上部IRヒーター モジュール |
標準 | ○ （電源仕様：三相200V、80A） |
— | |
| セパレート用石英ガラス板 | ○ | — | ||
| チャンバー高さ | ○（120mm） | チャンバー高さ80mm | チャンバー高さ80mm | |
| 最大到達温度 | 650℃ | 最大到達温度500℃ | ||
| 蓋付きグラファイト製円筒アダプタ | — | — | ||
| グラファイト製 プレート |
標準 | — | — | |
| PyC浸潤 | — | — | ||
| SiCコーティング | — | — | ||
| ダブルチャンバー | — | — | ||
| 石英ガラス製 チャンバー |
標準 | — | — | |
| 高真空対応 | — | — | ||
| 内蔵ギ酸還元 モジュール |
内蔵 （標準の窒素ガスMFC共用） |
○ | ||
| 内蔵 （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| 外付け （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター | ○ | |||
| フラックストラップフィルター | — | — | ||
| 高濃度水素ガス供給システム （安全対策オプション含む） |
○ | |||
| チャンバー蓋インターロック | （標準装備） | ○ | ||
| 追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ | ○ （合計4系統） |
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| 追加熱電対 （対象物温度測定・記録用） |
○ （合計1本） |
○ （合計3本） |
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| 湿度測定センサ （チャンバー内湿度測定・記録用） |
○ | — | ||
| 酸素濃度測定センサ （チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用） |
○ | |||
| 3色パトライト（赤・黄・緑） | ○ | |||
| 高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa） 及びターボ分子ポンプ |
○ | |||
| 対象物持ち上げ用リフトピン | ○ | |||
| 外部機器通信用シリアル通信機能 | ○ | |||
| チャンバー蓋開閉用リモート制御機能 | ○ | |||
| 真空ポンプ （真空到達圧） |
低真空 | ○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択） |
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| 高真空 | ○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa） |
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| 冷却機付きチラー | 1.3kW | ○ （5.3kW or 8.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
| ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー | ○ （504x714x412mm、約50kg） |
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| RSO-200 | RSS-3X210-S | RSS-160-S | RSS-110-S |
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| ・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 | |||
| 155×155×40 | 620×200×50 | 155×155×40 | 105×105×40 |
| 650℃ | 300℃ | 400℃ | |
| クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
カートリッジヒーター（下部加熱） | ||
