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卓上型 真空・雰囲気 加熱乾燥装置

この製品へのお問い合わせ

  • 卓上型真空炉 RSS-110-S  (ユニテンプジャパン株式会社)

リフロー炉として開発された製品ですが、
小さな試料の乾燥炉としてご利用頂く事もできると提案いたします。

小型、少量処理をお望みの方は是非ご検討ください。

特徴

▼小型!

・A3サイズよりも小さな設置面積  幅260×奥420mm
・コンセントで駆動  AC100Vで駆動(AC200Vも対応)
・容易に持ち運びできる 装置重量 約10kg

 

▼ホットプレート加熱方式

・少量の基盤処理に便利 有効エリア 110×110mm
・高温域にまで対応 温度制御範囲  RT~400℃(オプション500℃)
・早い昇温速度  昇温:約120K/min
・早い降温速度(急冷) 降温:180K/min(400~200℃の間)

 

▼真空とガスフローによる雰囲気下での乾燥

・真空到達 0.1Pa
・ガス雰囲気下

マスフローコントローラー1系統標準装備(最大5nlm)
※オプションにて水素、ギ酸などの還元雰囲気にも対応(要相談願います。)

・オプションによる残留酸素モニタ  

 

仕様

本体標準仕様

装置サイズ(W×D×H) 260×420×220mm
装置重量 約10kg
加熱プレートサイズ(W×D) 110mm×110mm
有効対象物サイズ(W×D×H) 105mm×105mm×40mm
最大到達温度 400℃
加熱方式 カートリッジヒーター(下部加熱)
温度制御方式 P.I.D.制御方式
プレート上温度バラつき 設定温度に対して±1.5%以内
(対象物:Φ110mmウエハ時)
最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る 120K/min.
最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る 180K/min.(T=400℃>200℃)
チャンバー真空耐久度 0.1Pa(10-3hPa)
プレセスガス共有ライン マスフローコントローラ×1
(最大流量:5nlm)
コントローラ タッチパネルコントローラSIMATIC TP-700
プロファイルプログラム登録数 最大:50プログラム
プログラムステップ数 最大:50ステップ
プロセスデータ保存先 USBメモリ/SDカード/Ethernet
チャンバー冷却方式 ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式 水冷/空冷(共用可)
電源仕様 単相200V、6.5A
単相100V、13A

オプション

装置本体

周辺ユーティリティー

 

真空ポンプ電動自動ON/OFF制御機能 ※必須
チャンバー内真空度測定・記載記録及び
ピラニ型真空度センサ ※必須
チャンバー高さ80mm
最大到達温度500℃
外付ギ酸還元モジュール
(基準の窒素ガス共有とMFC別系統)
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター
フラックストラップフィルター
高濃度水素ガス共有システム及び
安全対策オプション
チャンバー蓋インターロック
対象物温度測定・記録用追加熱電対(合計1本)
チャンバー内残留酸素濃度測定・記録機能及び
残留酸素濃度測定センサ

3色パトライト(赤・黄・緑)

 

 

真空到達度200Paメンブラン式真空ポンプ
真空到達度200Pa耐腐食性メンブラン式真空ポンプ
真空到達度0.1Paロータリー式真空ポンプ
真空到達度0.1Pa耐腐食性ロータリー式真空ポンプ
真空到達度0.3Paスクロール式真空ポンプ
真空到達度5Paドライ式真空ポンプ
1.3kW冷却器付きチラー
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー
(504×714×412mm、約50kg)

 

姉妹品

HP-220

 

機能を絞り、さらに小型化!

装置サイズ(W×D×H) 370×210×120mm
装置重量 約10kg
加熱プレートサイズ(W×D) 220mm×155mm
有効対象物サイズ(W×D×H) 210mm×150mm
最大到達温度 250℃
加熱方式 カートリッジヒーター(下部加熱)
温度制御方式 P.I.D.制御方式
プレート上面内部温度差 設定温度に対して±1%以内
最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る 25K/min.
最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る 10K/min.
窒素ガス 0.35~j0.4MPa(3.5~4 bar)
プロセスガス供給ライン 手動ガス流量計
コントローラ Eurotherm 2416
プロファイルプログラム登録数 1プログラム

一番コンパクトなモデルを掲載しております。
豊富にラインナップを取り揃えておりますので、下記の関連製品ページも合わせてご覧くださいませ。

 

二次電池について

二次電池についてお知りになりたい方は、下記ページもご参照ください。

二次電池について