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水素還元・ギ酸還元対応 卓上・小型 リフロー炉

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  • 卓上型真空はんだリフロー炉 (ユニテンプジャパン株式会社)

卓上型で水素還元、ギ酸還元に対応した小型・卓上のリフロー炉です。
研究・開発目的に特化した設計で、小さいながらも多彩な機能を有しております。
また、タッチパネルによる楽々設定でどなたでも簡単にお使いいただけます。

製品情報

特徴

◆ご目的に応じたラインナップからのご選択が可能

デスクトップ型で多くのラインナップを取り揃えております。
全てのモデルでH2還元、ギ酸還元に対応しており、お客様のニーズに幅広く対応します。

 

◆タッチパネルによる多彩なプログラム設定


・従来の時間軸に対する温度や昇温速度の設定のみならず、例えばチャンバー内真空度をトリガーとしたプログラムにも対応します。
・チャンバー内の温度、真空度センサーを装備し、リアルタイムに把握する事ができます。
・プラセスラインにマスフローコントローラー装備し、プログラムのステップ毎にガス流量を設定する事ができます。
・プロセスプログラム終了後は、温度、真空度、ガス流量など全てのデータをCSV形式で保存可能です。

 

◆チャンバー内のリアルタイム観察が可能(※オプション)


作動距離(WD)90mm、光学10倍ズーム、分解能3μmのマイクロスコープを取り付ける事で処理中の観察が可能になります。
また、本体ソフトのプログラム運転とも同期でき、静止画だけでなく、動画の記録・保存ができます。(別途PCが必要)



ラインナップ

▼詳細は下記よりご確認いただけます。

 
 
 
 
 

◆姉妹品


高精度プログラマブルホットプレート
ギ酸還元、水素還元、真空対応はしておりませんが、小規模試作、高い温度制御が可能なエントリーモデル!

【特徴】

• P.I.D制御で高度な温度制御性
• 最大到達温度250℃
• 最大昇温速度25K/min
• 窒素パージ環境に対応
• 加熱プレートサイズ 220mm×155mm
• 16stepの温度プログラムを設定可能
• ムラなく加熱できる高い均熱性
• オーバーシュートゼロの高い温度制御性


装置サイズ:370 x210x 120 mm(WxDxH)
装置重量:約10 kg
電源仕様:AC100V