作業環境｜製品のご紹介｜株式会社三ツワフロンテック

製品名	CAMSIZER M1	CAMSIZER X2	CAMSIZER P4	PARTAN 3D

特長	焦点合わせ・撮像・測定面移動を自動で行う光学顕微鏡	2カメラ光学系による幅広い測定範囲の高精度粒子径分布、粒子形状測定ふるい分けと高いデータ一致性	２カメラ光学系による大粒子、バルク材の粒子径分布、粒子形状ふるい分けと高いデータ一致性	三次元（3D）画像解析ふるい分けと高いデータ一致性
測定原理	静的画像解析式（ISO 13322-1）	動的画像解析式（ISO 13322-2）	動的画像解析式（ISO 13322-2）	動的画像解析式（ISO 13322-2）
測定範囲	0.5～1500 μm	0.8 μm～8 mm	20 μm～30 mm	22 μm～35 mm
測定量	測定面の移動範囲 225mm x 76mm 最大	300画像/秒 1～3分間で数十万から数百万個の粒子解析	60画像/秒	100画像/秒
試料供給方法	湿式・乾式M-JET	湿式・乾式自然落下・乾式空気圧分散	乾式自然落下	乾式自然落下
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製品名			NANOTRAC WAVE IIシリーズ				NANOTRAC FLEX

共通特長			周波数解析法とヘテロダイン法を利用することで、あらゆる粒子径分布(単峰性、多峰性、シャープ、ブロード)を光子相関法（PCS）のようなわずらわしい分布関数の解析不要で適切な分布形状が得られます。 DLSでありながら高分解能の測定が可能です。
モデル			WAVE II-EX150	WAVE II-EX151	WAVE II-UZ152	WAVE II-Q	FLEX
プローブタイプ			マルチモード	シングルモード	シングルモード	シングルモード	シングルモード
			内部プローブ式	内部プローブ式	内部プローブ式	内部プローブ式	外部プローブ式
サンプルセル			粒子径専用 PTFE／SUS	粒子径専用 PTFE／SUS	粒子径 PTFE／SUS ゼータ電位 PTFE	粒子径専用キュベットセル	－
測定項目	粒子径		●	●	●	●	●
	ゼータ電位		✖	✖	●	✖	✖
	分子量		✖	〇	●	〇	✖
オプション	温調		〇	〇	〇	〇	〇
個別製品特長			顔料インク測定のディファクトスタンダードとなっております。	シングルナノ粒子等の微弱な散乱光の検出に最適。低濃度から高濃度まで幅広い濃度領域に対応しています。	粒子径とゼータ電位の測定が簡便。印加電場の迅速なスイッチングにより電気浸透流を防ぎます。	ガラスやプラスチック製の様々な容量のキュベットセルが使用可能です。	あらゆる容器を測定容器として使用することができ、キュベットなどは必要ありません。プローブをライン中で使用し、反応中に成長する粒子をモニタリングすることができます。
仕様	測定原理		動的光散乱法（周波数解析法）／電気泳動法（UZ：ゼータ電位測定の場合）
	測定範囲	粒子径分布	0.8～6500ｎｍ
		ゼータ電位	✖	✖	－200～＋200ｍV	✖	✖
		分子量	✖	300Da～20MDa			✖
	測定時間		30～1800秒（粒子径による）
	有機溶媒対応		●
	レーザ		半導体レーザ　　クラス１製品
	試料量		EX／UZ　最小200μl～2ml　　UZ　500μl～２ｍｌ				5μl～
	温調機能		＋５～＋９０℃				✖
	外形寸法・重量		386（W）＊330（H）＊368（D）mm 6.8kg				180（W）＊300（H）＊260（D）mm 6kg
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●：標準機能　〇：オプション機能　✖：非搭載

製品名		マイクロトラック SYNCシリーズ	マイクロトラック MT3000 IIシリーズ	AEROTRAC II

特長		特許取得済みの同期測定技術により、レーザー回折・散乱法の可能性を広げました。レーザー回折散乱法の測定を簡単に、速く、正確に、再現性よく行うことができるだけでなく、サンプルセル内の同一サンプルに対して、同時にダイナミックな画像解析を行うことができます。	様々な業界スタンダード評価装置となっている3本レーザシステムで世界最高峰の分解能を有する装置です。お客様のサンプルに応じた様々なオプションがあり、分析、メンテナンスなどのサポートも充実しております。	AEROTRAC IIは、液滴、スプレー、塗装、ミスト、粉体専用の粒度分析装置でインジェクタ、ネブライザー、点鼻薬、殺虫剤、防水スプレーまで幅広いアプリケーションに対応しています。
湿式測定	測定レンジ	0.02～2000μｍ	0.02～2800μｍ	0.5～2000μｍ
	測定時間	10秒～	10秒～	0.02ｍ秒～
	FLOW循環器	〇	〇	×
	有機溶媒対応	●	●	●
乾式測定	測定レンジ	0.2～2000μｍ	0.2～2800μｍ	0.5～2000μｍ
	測定時間	10秒～	10秒～	0.02ｍ秒～
	ワンショット	×	〇	〇
	リニアフィーダー	〇	〇	－
画像解析	湿式	〇	〇 ※１	－
画像解析	乾式	〇	×	－
エアロゾル	液滴径	×	×	〇
エアロゾル	濃厚測定	×	×	多重散乱補正機能付き
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※１ S3500 SIとの組み合わせにより
●：標準機能　〇：オプション機能　✖：非搭載

製品名		Partica LA-960V2	Partica mini LA-350

特徴		精度保証（世界唯一）のベストセラーモデル！ 0.01μm～5000μmのワイドレンジ測定に加え豊富なアクセサリをご用意。分散媒注入からセル洗浄まで約1分！超音波プローブ搭載、最適な粒子分散を実現！	お買い求めやすいエントリーモデル！業界最小サイズで精度保証。 0.1μm～1000μm測定範囲で多様なサンプルに対応使い勝手を考えたユーザーフレンドリーなシンプルオペレーション
測定原理		Mie散乱理論	Mie散乱理論
測定範囲		0.01～5000μm	0.1～1000μm
測定時間		60秒	約10秒
測定セル	フローセル	標準：180mL～	標準：130mL～
	大容量
	バッチ式		〇（専用セル、撹拌機能）
	高濃度	〇
	高粘度	〇
	少量	〇　バッチ式：5 mL、10 mL、15 mL 　フロー式：35mL～
	画像	〇
	乾式	〇
	ビーカー
	温調	〇
	気中	〇スプレーユニット
	その他
多検体		〇　湿式用（撹拌ユニット機能）　乾式用
その他			有機溶媒対応仕様（オプション）
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製品名		マスターサイザー3000	マスターサイザー3000E	スプレーテック	インシテック(乾式)	インシテック(湿式)	インシテック(スプレー)

特徴		幅広い粒子径・サンプルに対応した、粒子径分布測定装置	粒度分布計のエントリーモデル	噴霧粒子およびスプレー液滴径測定	乾式プロセス用リアルタイム測定器	湿式プロセス用リアルタイム測定器	スプレー、エアロゾル
測定原理		Mie理論、Fraunhofer近似	Mie理論、Fraunhofer近似	MieおよびFraunhofer散乱	Mie 理論	Mie 理論	Mie 理論
測定範囲		0.01µm – 3500µm	0.1µm – 1000µm	レンズ(1)： 0.1 – 900 µm (Dv50: 0.5 – 600 µm レンズ(2)： 2 – 2000 µm (Dv50: 5 – 1600 µm).	0.1µm – 2500µm	0.1µm – 2500µm	0.1µm – 2500µm
測定時間		10秒以内	10秒以内
測定セル	フローセル	〇：120mL（超音波）	〇：120mL（超音波）	フローセル対応可能	連続モニタリング用製品	連続モニタリング用製品	連続モニタリング用製品
	大容量	〇：600mL（超音波）	〇：600mL（超音波）
	バッチ式	〇	ご相談ください	ご相談ください	連続モニタリング用製品	連続モニタリング用製品	連続モニタリング用製品
	高濃度	〇	ご相談ください	ご相談ください	－	－	－
	高粘度	〇	ご相談ください	ご相談ください	－	－	－
	少量	〇バッチ式：6-7mL フロー式：50mL～	〇バッチ式：6-7mL フロー式：50mL～
	画像	〇	－	－	－	－	－
	乾式	〇 2種類	〇 2種類		標準
	ビーカー	〇 250/600/1,000mL対応（超音波）	〇 250/600/1,000mL対応（超音波）
	温調
	気中			標準			標準
	その他					標準：湿式
多検体		〇	－	－	連続モニタリング用製品	連続モニタリング用製品	連続モニタリング用製品
その他
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製品名		PSA1190	PSA1090	PSA990

特徴		湿式と乾式標準（切替えはワンクリック）光軸調整不要
測定原理
測定範囲		湿式：0.04～2500 μm 乾式：0.1～2500 μm	湿式：0.04-500μm 乾式：0.1～500 μm	湿式：0.2～500 μm 乾式：0.3～500 μm
測定時間		＜1分		＜1分
測定セル	フローセル	標準	標準	標準
	大容量
	バッチ式
	高濃度
	高粘度
	少量	〇 40mL	〇 40mL	〇 40mL
	画像
	乾式	標準	標準	標準
	ビーカー
	温調	〇（オプション）	〇（オプション）	〇（オプション）
	気中
	その他	〇（高比重サンプル）	〇（高比重サンプル）	〇（高比重サンプル）
多検体		〇最大30検体	〇最大30検体	〇最大30検体
その他		乾式での自由落下測定
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製品名		Bettersizer2600

特徴		圧倒的コストパフォーマンス幅広い粒子径を高感度にカバー
測定原理		レーザー回折、フーリエおよび逆フーリエ光学系ミー散乱理論、フラウンホーファー回折理論
測定範囲		湿式：:0.02～2600μm、乾式：:0.1～2600μm
測定時間		＜10秒
測定セル	フローセル	標準
	大容量
	バッチ式
	高濃度
	高粘度
	少量	〇 8mL
	画像
	乾式	標準
	ビーカー
	温調
	気中
	その他
多検体
その他
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製品名	Litesizer

特徴	3つの測定角度透過率、屈折率（500型）の測定機能
測定原理	動的光散乱法 (DLS)
測定時間
測定範囲	0.3 nm～10 µm* (直径)
測定角度	500型：15°、90°、175° 100型：175°
濃度範囲	50 %w/v (サンプルに依存)
温度調整	0～90 °C
測定セル	12 µL～
ゼータ電位	〇 ※500型
pHタイトレーション	〇（オプション）
分子量	〇 ※500型
サイズ	460mm × 485mm × 145mm
重量	約20kg
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製品名	NICOMP N3000

特徴	・高出力レーザー、高感度ディテクター、多角度検出器、自動希釈、ASなど、フルスペック対応
測定原理	動的光散乱法（DLS） ※レーザードプラー法
測定時間
測定範囲	1nm～5μm
測定角度
濃度範囲
温度調節	5-80℃　※ペルチェ素子
測定セル
多検体
ゼータ電位	〇
pHタイトレーション
分子量
サイズ	410(W)×560(D)×230(H)mm
重量	15kg
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製品名	nanoPartica SZ-100V2

特徴	業界初の高出力グリーンレーザや世界最速のコリレータを搭載し高精度測定を実現！多様化するサンプルに対応するゲル解析システムも搭載。 HORIBA独自開発のキュービックセルで一歩先のゼータ電位測定！
測定原理
測定時間
測定範囲	0.3 nm ～ 10 μm （直径）
測定角度	90° および173°
濃度範囲
濃度調調節	0～90℃ （プラスチック製セルおよび電極付きセルは70℃まで）
測定セル	ディスポセル：最小1.2mL セミマイクロセル：最小500μL ガラスセル：最小1.2mL セミマイクロディスポセル：最小600μL 栓付セル：1.2mL マイクロセル（側方のみ）：12μL サブマイクロセル：200μL フローセル：100μL
ゼータ電位	〇 ※Z2、HZ2型のみ
pHタイトレーション	〇
分子量	〇
サイズ
重量
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製品名	Zetasizer アドバンスシリーズ

特徴	より早く、より少量で、より正確なナノ粒子測定を実現用途に合わせて6タイプをご用意（検出角度・レーザ出力）
測定原理	非接触後方散乱(NIBS)、動的光散乱法(90°、13°) 多角度動的光散乱法(MADLS)
測定時間	約2分（試料・測定内容に依存する）
測定範囲	Ultra: 0.3 nm～15 μm Pro　： 0.3 nm ～ 10 μm Lab　：0.3 nm ～ 15 μm
測定角度	Ultra：多角度（173°、13°、90°） Pro　：後方散乱（173°、13°） Lab　： 90°散乱（90°、13°）
濃度範囲	最大40% w/v（試料による）
温度調節	0°C ～ 120°C ※ 露点未満の温度では乾燥窒素セルパージが必要
測定セル	Ultra：最小3 μL Pro：最小 12 μL Lab：最小3μL
多検体	－
ゼータ電位	〇
pHタイトレーション	〇
分子量	〇
サイズ	322 mm x 565 mm x 245 mm
重量	19 kg
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製品名		ELSZneo	ELSZ-2000ZS	DLS-8000 6500型(DLS専用)	nanoSAQLA

特長		・ELSZシリーズの最上位機種　・希薄系から濃厚系溶液まで対応　・光散乱技術を駆使して微粒子のキャラクタリ　　ゼーションを提供	・希薄系から濃厚系溶液まで広範囲に対応　・光散乱技術で粒子径・ゼータ電位・分子量測定が　　可能	・光散乱技術で粒子径・分子量測定が可能　・固体レーザー仕様でナノ粒子を高精度に測定	・研究開発から品質管理まで使用できる仕様と機能　・標準仕様で最大5検体の連続測定が可能　・最大50検体連続測定が可能なオートサンプラを　　準備（オプション）
測定原理		動的光散乱電気泳動光散乱静的光散乱	動的光散乱電気泳動光散乱静的光散乱	動的光散乱静的光散乱	動的光散乱
測定範囲		0.6nm～10μm	0.6 nm ～ 10μm	1.4 nm ～ 7000nm（固体レーザー） 3 nm ～ 7000nm（ He-Ne）	0.6nm ～ 10μm
濃度範囲		0.00001(0.1ppm)～40％（PS Latex粒子：0.00001 ～ 10％、タウロコール酸：～40%）	0.00001(0.1ppm)～40％（PS Latex粒子：0.00001 ～ 10％、タウロコール酸：～40%）		0.00001(0.1ppm)～40％（PS Latex粒子：0.00001 ～ 10％、タウロコール酸：～40%）
温度調節		〇 0～90℃ （温度グラジエント機能あり） ※ガラスセルを使用時 ※ディスポセルの使用温度は10 ～ 50℃	〇 0～90℃ （温度グラジエント機能あり） ※ガラスセルを使用時 ※ディスポセルの使用温度は10 ～ 50℃	〇標準仕様： 5～90℃ 高温仕様：5-160℃	〇 0 ～ 90℃ （温度グラジエント機能あり） ※5連セルホルダーやディスポセルを使用する場合は 15 ～ 40℃
測定セル		粒子径ガラスセル（四面透過）：1.0mL～多角度セル：1.5mL～粒子径ディスポセル：1.0ｍL～粒子径微量ガラスセル：20μL～粒子径超微量ガラスセル：3μL～粒子径微量ディスポセル：50μL～	角セル : 0.9mL ～微量セル：20μL ～（オプション）	5φ微量セル： 50μL～（オプション） 12φ円筒セル：0.7mL～ 21φ円筒セル： 3mL～	角セル：1.2mL～、微量セル：20μL～
測定項目	粒子径	〇	〇	〇	〇
	ゼータ電位	〇	〇
	分子量	〇	〇	〇
サイズ		330(W)×565(D)×245(H)mm	380(W)×600(D)×210(H)mm	560(W)×700(D)×570(H) mm	240(W) ×480(D)×375(H)mm
重量		22kg	22kg	約55kg	約18 kg
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製品名	VASCO KIN	VASCO

特徴	・In-situ、非接触・モニタリングに最適	・希薄から濃厚まで対応
測定原理	動的光散乱法	動的光散乱法
測定時間	30秒～数分	30秒～数分
測定範囲	0.5～10,000nm	0.5~10,000nm
測定角度	135°	170°
濃度範囲	～40vol%　※試料による	～40vol%　※試料による
濃度調調節		10～70 ℃
測定セル	ガラス等の透明容器	10µl～ (最低試料量はサンプルの性状に依存)
サイズ	50 x 25 x 120 mm (HWD)ヘッド 220 x 220 x 64 mm (upper part) 220 x 220 x 48 mm (lower part)	30 cm x 33 cm x 28 cm (HWD)
重量	ヘッド 0.5kg 2.5 kg (upper part) 2.8 kg (lower part)	12 kg
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製品名	DT1202

特徴	濃厚系を原液測定ニーズに！
測定原理	超音波減衰分光法
測定範囲	0.005～1000μｍ ※試料による
対応濃度	0.1～50Vol％ ※試料による
対応粘度	20,000cp以下
測定時間	1-10分
測定セル	37-150mL
ゼータ電位	〇
pH滴定	〇
多検体
その他
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製品名	Zeta-APS

特徴
測定原理	超音波減衰分光法
測定範囲	10nm～100μm
対応濃度	0.1-50Vol%
対応粘度	流動性があること
測定セル	120mL～
ゼータ電位	〇
pH滴定
多検体
その他	水系・溶媒系
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製品名	AcoustoSizerⅡx

特徴
測定原理	超音波減衰法
測定範囲	10nm～100μm
対応濃度	0.1-40Vol%
対応粘度	最大7,500mPa･s
測定時間
測定セル	標準：85mL～少量：20mL～
ゼータ電位	〇
pH滴定
多検体
その他
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製品名	ViewSizer3000

特徴	キュベットセル式（メンテナンス、再現性良好）
測定原理	Particle Tracking Analysis（PTA）法
測定波長	3波長光源
測定範囲	10nm～15μm（直径）
対応濃度	5×106 ～ 2×108 particles/mL
測定セル	350μL～1,250μL　※キュベットセル
温度制御	10～50℃、 ±0.1℃
その他	蛍光フィルタ
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製品名	ナノサイト NS300

特徴	粒子のブラウン運動をカメラでとらえ、粒子径と粒子濃度を算出
測定原理	ナノトラッキング法（NTA）
測定波長	405nm（紫色）、488nm（青色）、 532nm（緑色）または642nm（赤色）
測定範囲	10nm～1000nm
対応濃度	粒子10⁶～10⁹個/ml
測定セル	フローセル、有機溶媒対応セル
温度制御	室温から-5℃より最大50℃まで
その他	モーター駆動式ホイールに最大6個の異なる光学フィルタ
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製品名	ZC-3000

特徴
測定原理
測定波長
測定範囲
対応濃度
測定セル
温度制御
その他
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製品名	Partica CENTRIFUGE

特徴
測定原理	遠心沈降法
測定範囲	10 nm ~ 40 μm
最大遠心力	30,000 G
測定セル
対応濃度
対応粘度
測定時間
温度制御	15 ～ 25℃
測定光源
その他	密度勾配フラクショネータ（オプション）
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製品名	LUMiSizer

特徴
測定原理
測定範囲	20 nm to 100 µm
最大遠心力	6 ～ 2300 × g
測定セル	0.05 ml to 2.0 ml 最大12検体同時測定
対応濃度	0.00015 Vol % – 90 Vol % 粒子密度：最大 22 g/cm³
対応粘度	0.8 ～ 108 mPas
測定時間
温度制御	4 °C to 60 °C
測定光源	1光源、または2光源(470nm・865nm)
その他
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製品名	CPS Disc Centrifuge

特徴
測定原理	ディスク遠心式
測定範囲	0.01～40μm （粒子密度に依存）
最大遠心力	600～12,000 rpm (Model DC12000) 600～18,000 rpm (Model DC18000) 600～24,000 rpm (Model DC24000UHR)
測定セル	ディスク式（材質：CR-39）
対応濃度
対応粘度
測定時間	3～30分（測定範囲、粒子密度に依存）
温度制御
測定光源	発光ダイオード 405nm or 470nm選択
その他
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製品名	モフォロギシリーズ

特徴	全自動で粒子径と粒子形状を測定
測定原理	静的自動画像分析（乾式/湿式）
測定範囲	0.5µm – 1300µm 2.5x：8.5 µm～1300 µm（公称値） 5x：4.5 µm～520 µm（公称値） 10x：2.5 µm～260 µm（公称値） 20x：1.5 µm～130 µm（公称値） 50x：0.5 µm～50 µm（公称値）
測定量	スライドガラス4枚分
測定時間
その他	ラマンスペクトルを用いた粒子の化学情報の取得ウエットセルによる液中粒子の分析
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製品名	SOPAT	XPT

特徴	プローブ式でリアルタイムモニタリング	小型　リーズナブル
測定原理		動的画像解析式
測定範囲	0.5～50,000μm model①　0.5-90μm model②　0.9-170μm model③　1.5-280μm model④　3-350μm model⑤　9-1,200μm model⑥　19.5-2,600μm model⑦　70-9,300μm model⑧　10-50,000μm（※使用するレンズに依存）	XPT-C（分散液用・流通式） 1 µm ~1 mm、最大解像度0.475 µm/ピクセル XPT-CP（粉体用） 10 µm~2 mm (湿式にオプション付与可能) 10μm~20mm (粉体測定のみ、乾燥粉体の付着があるため実質50μm～
撮影視野	model①　0.17mmΦ model②　0.38mmΦ model③　0.55mmΦ model④　0.8mmΦ model⑤　2.7mmΦ model⑥　5.9mmΦ model⑦　20mmΦ model⑧　（※使用するレンズに依存）
その他	耐熱：0-130℃　最大-50～450℃　オプション圧力：0.01～3bar（最大0.01-320bar）　オプション	オプション温調（4～70℃）蛍光光源分散安定性評価
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製品名	MFIシリーズ

特徴	検出効率85% 最少サンプル量　500μL～粒子個数、サイズの定量が可能
測定原理	フロー式画像解析
測定範囲	5200型：1～70μm 5100型：2～300μm
測定量	最小：500μL～検出効率：85%
測定時間	5200型：150μL/min 5100型：200μL/min
その他	90検体オートサンプラー
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製品名	CHDF3000

特徴
測定原理	キャピラリー式ナノ粒子サイズ分離型
測定範囲	0.005～3.0μm
分級方式	分散粒子がキャピラリー内を流れる時に発生する、粒子サイズによる分離効果
測定時間	約10分
その他	55件体オートサンプラー
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製品名	LiquiScan-ES

特徴	粒子分級技術（DMA法）による多分散サンプル計測が可能最小2.5nm～の粒子を個数評価が可能であり、 CMPスラリー/金属微粒子/ポリマーなどの無機材料やタンパク質などの凝集体評価などを精度よく測定が可能です。また水・IPA・過酸化水素水などのコンタミをシングルナノから計測可能です。
測定原理	DMA法
測定範囲	2.5-1,000nm
粒子カウント	CPC
測定時間	1～4分
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製品名	nCS1 nano particle counter

特徴	高分解能、正確な濃度測定、極小
測定原理	電気的検知帯法（MRPS法）
測定範囲	50-300, 65-400, 130-900, 250-2000 nm, 1.5 – 10 μm
測定時間	5分
測定セル	最小3μL、ディスポカートリッジ
その他
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モデル名		VSS-450-300	RVS-210	RSS-210-S
外観
特徴		・真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』・300mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・200mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・毎分240k/minの高速昇温・200mm角対応
加熱プレートサイズ	WxD(mm)	320×320	210×210	210×210
有効対象物サイズ	WxDxH(mm)	300×300×50	200×200×50	200×200×50
最大到達温度		450℃	400℃	400℃
加熱方式		クロス配列IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）
温度制御方式		P.I.D.制御方式
プレート上面内温度差		設定温度に対して±1%以内		設定温度に対して±1%以内
プレート上面内温度差		（対象物：Φ300mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）
最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る		150K/min.	120K/min	240K/min
最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る		90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃）	120K/min（T=400℃>200℃） —	120K/min（T=400℃>200℃） —
チャンバー真空耐久度		0.1 Pa（10^-3hPa）
プロセスガス供給ライン		マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm）
コントローラ		タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700
プロファイルプログラム登録数		最大：50プログラム
プログラムステップ数		最大：50ステップ
チャンバー冷却方式		ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式		水冷/空冷（共用可）
装置サイズ	WxDxH(mm)	550x690x830	670x544x320	430x295x290
装置重量	(kg)	約105kg	約45kg	約22kg
電源仕様		三相200V・40A	三相200V・25A	三相200V・16A
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置　装置オプション
上部IRヒーターモジュール	標準	○ （電源仕様：三相200V、80A）	—
上部IRヒーターモジュール	セパレート用石英ガラス板	○	—
チャンバー高さ		○（120mm）	チャンバー高さ80mm	チャンバー高さ80mm
最大到達温度		650℃		最大到達温度500℃
蓋付きグラファイト製円筒アダプタ		—	—
グラファイト製プレート	標準	—	—
	PyC浸潤	—	—
	SiCコーティング	—	—
ダブルチャンバー		—	—
石英ガラス製チャンバー	標準	—	—
石英ガラス製チャンバー	高真空対応	—	—
内蔵ギ酸還元モジュール	内蔵（標準の窒素ガスMFC共用）	○
	内蔵（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
	外付け（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター		○
フラックストラップフィルター		—	—
高濃度水素ガス供給システム（安全対策オプション含む）		○
チャンバー蓋インターロック		（標準装備）	○
追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ		○ （合計4系統）
追加熱電対（対象物温度測定・記録用）		○ （合計1本）	○ （合計3本）
湿度測定センサ（チャンバー内湿度測定・記録用）		○		—
酸素濃度測定センサ（チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用）		○
3色パトライト（赤・黄・緑）		○
高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa）及びターボ分子ポンプ		○
対象物持ち上げ用リフトピン		○
外部機器通信用シリアル通信機能		○
チャンバー蓋開閉用リモート制御機能		○
真空ポンプ（真空到達圧）	低真空	○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択）
真空ポンプ（真空到達圧）	高真空	○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa）
冷却機付きチラー	1.3kW	○ （5.3kW or 8.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー		○ （504x714x412mm、約50kg）

RSO-200	RSS-3X210-S	RSS-160-S	RSS-110-S

・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応
155×155×40	620×200×50	155×155×40	105×105×40
650℃	300℃	400℃
	クロス配列IRヒーター（下部加熱）	カートリッジヒーター（下部加熱）

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